intTypePromotion=1
zunia.vn Tuyển sinh 2024 dành cho Gen-Z zunia.vn zunia.vn
ADSENSE
 » 
 » 

Bài giảng Lợi thế về liều lượng bộ thu chuẩn trực bề mặt mới giấy chức năng tungsten trong liệu pháp điện tử

Chia sẻ: _ _ | Ngày: | Loại File: PDF | Số trang:3

Thêm vào BST
Báo xấu
14
lượt xem 1
download
 
  Download Vui lòng tải xuống để xem tài liệu đầy đủ

Bài giảng Lợi thế về liều lượng bộ thu chuẩn trực bề mặt mới giấy chức năng tungsten trong liệu pháp điện tử trình bày các nội dung chính sau: Giấy Vonfram đa năng là gì, liệu pháp điện tử, thử thách của TFP trong lâm sàng.

Chủ đề:

Bình luận(0) Đăng nhập để gửi bình luận!

Lưu

Nội dung Text: Bài giảng Lợi thế về liều lượng bộ thu chuẩn trực bề mặt mới giấy chức năng tungsten trong liệu pháp điện tử

  1. 8/17/2018 6th Annual Conference of Vietnam Association of Radiological Technologists Giới thiệu Chì là chất liệu che chắn phóng xạ trong lĩnh vực y học rất tốt Lợi thế về liều lượng bộ thu chuẩn trực bề mặt mới giấy chức năng tungsten  trong liệu pháp điện tử Chiếu xạ định hình trong Kính chắn phóng xạ Áo chì bảo vệ khỏi phóng xạ Xạ trị Mikoto M k Tamura1, Hajime T H Monzen M 1, Yoshihiro Y h h Kawai K 2, Morikazu M k A Amano2, Những bất lợi của Chì Trong ngành công nghiệp, việc Kenji Matsumoto1, Masahiko Okumura3, Yasumasa Nishimura4 1. Độc hại đối với cơ thể người sử dụng chì bị cấm 1. Department of Medical Physics, Graduate School of Medical Science, Kindai University 2. Cản trở quá trình làm việc 2. Department of Radiology, Fujieda Municipal Genaral Hospital Trong ngành y tế,  3. Department of Radiology, Kindai University Hospital 4. Department of Radiation Oncology, Faculty of Medicine, Kindai University 3. Ô nhiễm môi trường Chì vẫn được sử dụng... Kindai University Kindai University Giấy Vonfram đa năng là gì( TFP ) ? Mục đích Khả năng che chắn phóng xạ và là giấy chưa bột vonfram Một cuộc điều tra về đặc điểm của liều tia với bề mặt chuẩn Đặc điểm của giấy vonfram đa năng: trực TFP mới Độ dày = 0.3 mm W: 80 wt% và Cellulose ( C6H10O5 ): 20 wt% 1. Không hề độc hại với cơ thể người 2. Dễ dàng sử dụng trong quá trình làm việc ( cắt, gấp, và dán vào các vật liệu khác ) 3. Thân thiện môi trường nhờ tái tạo được H. Monzen et al. J Appl Clin Med Phys 18, 325‐329, 2017 Kindai University Kindai University Liệu pháp điện tử 120 Chuẩn bị và Phương pháp (theo hình học) Hồ sơ liều sâu Hồ sơ liều bên 100 Phương pháp thông thường Novel method Liều tương đối (%) 90 80 Tia Electron liều 4 và 6 MeV  Tia Electron liều 4 và 6 MeV  6 MV X‐ray Lý tưởng Linac: Infinity (Elekta AB) Linac: Infinity (Elekta AB) 60 “Liều thiếu” 40 “Drop‐off” “Liều dư” SSD: SSD: 20 Đối Thực tế Máy phát Electron Máy phát Electron      6 MeV Electron Target 100 cm 100 cm Máy phát Electron tượng (10×10 cm2) (10×10 cm2) 0 → Khu vực chiếu xạ 0 2 4 6 ‐60 ‐30 0 30 60 Hồ sơ liều bên Chiều sâu (cm) Chuẩn trực Chuẩn trực bằng bằng chì 6 cmφ 6 cmφ ”Ung thư bề ngoài” ví dụ như ung thư xương và ung thư da,..vv vonfram (Độ dày = 1.0 cm) Đo liều phim Hồ sơ liều sâu Hồ sơ liều bên Basal cell ca Sq cell ca Melanoma Đường Isodose Hồ sơ liều sâu https://allabout.co.jp/gm/gc/382574/ Liều bề mặt cao cùng với vùng bao phủ sâu và Sharp penumbra ・・・ Tuyệt vời!!  Phantom Phantom Kindai University Kindai University 1
  2. 8/17/2018 Chuẩn bị và Phương pháp (Đo lường) Kết quả và Bàn luận (PDD) % liều sâu Hồ sơ liều bên Đặc điểm liều lượng 100 4 MeV 100 6 MeV Tia Electron liều 4 và 6 MeV  Tia Electron liều 4 và 6 MeV  1. Liều bề mặt, độ sâu tối đa (dmax), 90% (d90), và 50% liều (d50) 80 80 200 MU 200 MU 120.0 dmax Chì Chì PDD (%) 100.0 PDD (%) TFP 60 TFP 80.0 d90 60 SSD: SSD: 60.0 100 cm 100 cm d50 40.0 20 0 20.0 Đườngg congg 40 40 0.0 PDD TFP Chì TFP Chì Chì Chì 0 10 20 30 40 dmax: 8.0 mm dmax: 9.0 mm 20 dmax: 13.0 mm dmax: 14.0 mm 6 cmφ 6 cmφ 20 TFP TFP 2. Vùng nửa tối (P80‐20) at d90 d90: 11.0 mm d90: 12.0 mm d90: 18.9 mm d90: 19.8 mm 120.0% Hồ sơ liều bên d50: 16.2 mm d50: 16.2 mm d50: 25.4 mm d50: 25.6 mm 100.0% Máy dò kim cương;  Phim EBT3 0 0 80.0% P80‐20 0 10 20 30 40 0 20 40 60 TM60019 (PTW) (Ashland ISP ) 60.0% Độ sâu (mm) Độ sâu (mm) 40.0% ( ) 20.0% So với Chuẩn trực bằng chì thông thường, Chuẩn trực bằng TFP tạo ra liều bề mặt cao hơn Nước Nước cất 0.0% nhưng lại gần như bằng nhau ở vùng cân bằng hạt ‐60 ‐40 ‐20 0 20 40 60 Kindai University Kindai University Kết quả và Bàn luận (Hồ sơ liều bên tại d90) Kết quả và Bàn luận (Phân bố liều 2D) Chuẩn trực chì % Chuẩn trực TFP trên bề mặt 4 MeV 4Chì MeV Lead 6 MeV 6 Chì MeV Lead 4TFP MeV TFP 6 TFP MeV TFP 100.0% P80‐20 100.0% P80‐20 100 100 Chì: 15.0 mm Chì: 16.4 mm × 2.01 o se (%) TFP: 13.0 mm đối (%) TFP: 9.6 mm 80.0% 80.0% 80 80 Volume >90% liều Volume >90% liều e la tiv e dđối e la tiv e d o s e u Rtương u Rtương 60.0% 60.0% 60 60 Chuẩn trực chì 40 0% 40.0% 40 40.0% 400% Chuẩn trực TFP trên TFP trên bề mặt Liều 40 Liều 20.0% 20 20 20.0% × 2.39 0.0% 0 0 0.0% -60 ‐60 -40 ‐40 -20 ‐20 00 20 20 40 40 60 60 -60‐60 -40 ‐40 -20 ‐20 0 0 20 20 40 40 6060 Volume >90% liều Volume >90% liều Lateral position (mm) Lateral position (mm) Vị tri phía bên (mm) Vị tri phía bên (mm) Những vùng được che chắn của Chuẩn trực TFP đo được thấp hơn 5.4 mm và 3.4 mm so với Dung tích được xử lý (>90% liều) với Chuẩn trực TFP tăng gấp 2 lần hoặc hơn so với Chuẩn trực chì ở tia 4 and 6 MeV tương ứng Chuẩn trực chì Kindai University Kindai University Kết luận Thử thách của TFP trong Lâm sàng  Phát triển lớp lót bảo vệ bức xạ mới Chuẩn trực có bề mặt TFP có thể cung cấp sự phân chia liều một ‐ Bảo vệ xung quanh Cho bệnh nhân chiếu xạ vùng tiền liệt tuyến cách tuyệt vời như là Liều bề mặt cao không bolus và sharp M. Inada et al. J Radiat Res 59, 333‐337, 2018 penumbra so với chuẩn trực bằng Chì thông thường  Giảm phơi nhiễm cho các y sĩ trong bức xạ can thiệp (IR) ‐ GIảm phơi nhiễm bở tia X thứ từ bệnh nhân H. Monzen et al. J Appl Clin Med Phys 18, 215‐220, 2017  Liệu pháp lưới Electron ‐ Phương pháp chiếu xạ mới thay thế cho v.s phương pháp chiếu xạ thông thường . M. Tamura et al. Phys Med Biol 62, 878‐889, 2017 Kindai University Kindai University 2
  3. 8/17/2018 Cảm ơn đã dành thời gian! Dịch bởi sv.Trần Quang Bách Kindai University 3
ADSENSE

CÓ THỂ BẠN MUỐN DOWNLOAD

THÔNG TIN
TRỢ GIÚP
HỖ TRỢ KHÁCH HÀNG
Theo dõi chúng tôi

Chịu trách nhiệm nội dung:

Nguyễn Công Hà - Giám đốc Công ty TNHH TÀI LIỆU TRỰC TUYẾN VI NA

LIÊN HỆ

Địa chỉ: P402, 54A Nơ Trang Long, Phường 14, Q.Bình Thạnh, TP.HCM

Hotline: 093 303 0098

Email: support@tailieu.vn

Giấy phép Mạng Xã Hội số: 670/GP-BTTTT cấp ngày 30/11/2015 Copyright © 2022-2032 TaiLieu.VN. All rights reserved.

 

Đồng bộ tài khoản
2=>2